Please use this identifier to cite or link to this item:
https://hdl.handle.net/10216/74022| Author(s): | Diana Esperança Virgílio Cardoso |
| Title: | Otimização da remoção de photoresists no processo e WLB na indústria de semicondutores |
| Issue Date: | 2014-07-25 |
| Subject: | Ciências da engenharia e tecnologias Engineering and technology |
| Scientific areas: | Ciências da engenharia e tecnologias Engineering and technology |
| DOI: | 10.34626/xk6g-a873 |
| TID identifier: | 201300885 |
| URI: | https://hdl.handle.net/10216/74022 |
| Document Type: | Dissertação |
| Rights: | openAccess |
| License: | https://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/ |
| Appears in Collections: | FEUP - Dissertação |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| 31653.pdf | Otimização da remoção de photoresists no processo e WLB na indústria de semicondutores | 4.33 MB | Adobe PDF |  View/Open |
This item is licensed under a Creative Commons License
