1. Repositório Aberto da Universidade do Porto
  2. FEUP - Faculdade de Engenharia
  3. FEUP - Dissertação
Please use this identifier to cite or link to this item: https://hdl.handle.net/10216/74022
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DC FieldValueLanguage
dc.creatorDiana Esperança Virgílio Cardoso
dc.date.accessioned2025-11-09T12:16:41Z-
dc.date.available2025-11-09T12:16:41Z-
dc.date.issued2014-07-25
dc.date.submitted2014-08-07
dc.identifier.othersigarra:31653
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10216/74022-
dc.language.isopor
dc.rightsopenAccess
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/
dc.subjectCiências da engenharia e tecnologias
dc.subjectEngineering and technology
dc.titleOtimização da remoção de photoresists no processo e WLB na indústria de semicondutores
dc.typeDissertação
dc.contributor.uportoFaculdade de Engenharia
dc.identifier.doi10.34626/xk6g-a873
dc.identifier.tid201300885
dc.subject.fosCiências da engenharia e tecnologias
dc.subject.fosEngineering and technology
thesis.degree.disciplineMestrado Integrado em Engenharia Metalúrgica e de Materiais
thesis.degree.grantorFaculdade de Engenharia
thesis.degree.grantorUniversidade do Porto
thesis.degree.level1
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