Utilize este identificador para referenciar este registo:
https://hdl.handle.net/10216/64729Registo completo
| Campo DC | Valor | Idioma |
|---|---|---|
| dc.creator | Joaquim F. Silva Gomes | |
| dc.date.accessioned | 2026-01-22T00:12:44Z | - |
| dc.date.available | 2026-01-22T00:12:44Z | - |
| dc.date.issued | 1984 | |
| dc.identifier.issn | 0870-8444 | |
| dc.identifier.other | sigarra:65843 | |
| dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/10216/64729 | - |
| dc.language.iso | por | |
| dc.rights | openAccess | |
| dc.rights.uri | https://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/ | |
| dc.subject | Ciências Tecnológicas, Ciências da engenharia e tecnologias | |
| dc.subject | Technological sciences, Engineering and technology | |
| dc.title | Fotoelasticidade, Parte II: Princípios Básicos | |
| dc.type | Artigo em Revista Científica Nacional | |
| dc.contributor.uporto | Faculdade de Engenharia | |
| dc.subject.fos | Ciências da engenharia e tecnologias | |
| dc.subject.fos | Engineering and technology | |
| Aparece nas coleções: | FEUP - Artigo em Revista Científica Nacional | |
Este registo está protegido por Licença Creative Commons
