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https://hdl.handle.net/10216/64729| Autor(es): | J. F. Silva Gomes |
| Título: | Fotoelasticidade, Parte II: Princípios Básicos |
| Data de publicação: | 1984 |
| Assunto: | Ciências Tecnológicas, Ciências da engenharia e tecnologias Technological sciences, Engineering and technology |
| Áreas do conhecimento: | Ciências da engenharia e tecnologias Engineering and technology |
| URI: | https://repositorio-aberto.up.pt/handle/10216/64729 |
| Tipo de Documento: | Artigo em Revista Científica Nacional |
| Condições de Acesso: | openAccess |
| Licença: | https://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/ |
| Aparece nas coleções: | FEUP - Artigo em Revista Científica Nacional |
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