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https://hdl.handle.net/10216/64730| Author(s): | Joaquim F. Silva Gomes |
| Title: | Fotoelasticidade, Parte III: Polariscópios e Técnicas de Análise |
| Issue Date: | 1985 |
| Subject: | Ciências Tecnológicas, Ciências da engenharia e tecnologias Technological sciences, Engineering and technology |
| Scientific areas: | Ciências da engenharia e tecnologias Engineering and technology |
| URI: | https://hdl.handle.net/10216/64730 |
| Document Type: | Artigo em Revista Científica Nacional |
| Rights: | openAccess |
| License: | https://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0/ |
| Appears in Collections: | FEUP - Artigo em Revista Científica Nacional |
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